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| 動態(tài)和靜態(tài)真空漏率區(qū)別是什么？ |
| 發(fā)布時間：2015-01-16 瀏覽： 次 |
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動態(tài)真空系統(tǒng)允許漏率 所謂動態(tài)真空系統(tǒng)，指工作時泵仍然對它 進行抽氣的系統(tǒng)，如真空冶煉爐，真空鍍膜機，粒子加速器等。 例如：一臺鍍膜機，對蒸發(fā)室的有效抽速S為100L/S ，要求達(dá)到的極限壓力 P0 為1*10-5 帕，那么該鍍膜機的允許漏率[Ql]=(1/10)SP0=1*10-4 帕升/秒 靜態(tài)真空系統(tǒng)的允許漏率 所謂靜態(tài)真空系統(tǒng)，即工作時已與泵隔離的真空系統(tǒng)，一般又稱密閉容器或密閉器件，如顯 像管，電子管等。 例如：某只電子管，其內(nèi)腔容積為 0.1L ，封離時的壓力 P0 為 1*10-7帕，電子管正常工作的最高壓力P1為1*10-3 帕，要求器件保存和工作的時間T為 50000H 。 那么，該電子管允許 漏率應(yīng)為 [Ql]=(1/10)V ( P1-P0 ) /T=3.6*10-14 帕升/秒
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